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以下材料均可以使用等離子體進(jìn)行活化、消毒和蝕刻：PEEK、PEKK、Acetal(POM)、PE、PA、或PMMA、金屬(EM,NEM,Titan)、鋯和陶瓷。在牙科工作中使用低壓等離子體進(jìn)行表面處理的優(yōu)勢：活化和蝕刻以獲得更好的附著力?等離子體可以根據(jù)形狀將高性能塑料（例如：PEEK/PEKK）與其他材料無縫組合。?通過使用離子化的氧氣-氬氣-混合氣對表面......
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等離子去膠機(jī)是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于有機(jī)及無機(jī)殘留物的去除，去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用，清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架，提高黏附性等，它的設(shè)計緊湊，占地面積小，設(shè)備運行穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。它的工藝簡單、效率高，處理后無酸氣廢水等殘留......
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等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材......
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X射線光電子能譜分析X射線光電子能譜法（X-rayPhotoelectronSpectrom-----XPS）在表面分析領(lǐng)域中是一種嶄新的方法。雖然用X射線照射固體材料并測量由此引起的電子動能的分布早在本世紀(jì)初就有報道，但當(dāng)時可達(dá)到的分辯率還不足以觀測到光電子能譜上的實際光峰。直到1958年，以Siegbahn為首的一......
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優(yōu)勢一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率；二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。......
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